TECHNIQUE
技術情報
ウェハ用めっき実験装置に関するよくあるご質問
このページでは当社のウェハ用めっき実験装置に関するよくあるお問合せをご紹介します。
仕様について
Q. 山本鍍金試験器のウェハ用めっき実験装置の精度はどれくらいですか？
A. 8inch硫酸銅めっきでの膜厚分布の実験で、膜厚バラツキ±3-5%以下の実験結果がございます。めっき条件などの実験詳細はこちらの技術情報をご覧ください。
当社の研究開発パートナーであるフランス国立技術研究所の論文でも結果が公開されています。
David Bourrier, Arnaud Durlach. COMPARISON OF THICK COPPER PLATING RESULTS WITH LABORATORY AND INDUSTRIAL ELECTROPLATING TOOLS. Journées Nationales sur les Technologies Emergentes en micro-nanofabrication (JNTE 2017), Oct 2017, Orléans, France. 1p., 2017. ffhal-01873753f
Q. 特殊な形状や材質のウェハも処理できますか？
A. 標準品はJEITAおよびSEMI規格に合わせて製作していますが、特注にて様々な形状、材質、厚さのサンプルに対応します。実績としては丸型、角型だけでなく、丸型をカットした扇形、半円形等がございます。一つの治具で複数のサンプルを処理することもできます。
Q. ウェハめっき用の陰極カートリッジの電気接点をどのように取っていますか？
A. 治具のタイプによって異なりますが、標準製品では円周上に複数の点接点を並べています。特注にて外周に面接点を取るタイプや裏面で接点を取るタイプもお作りします。
シール材を使用している密閉型治具を使えばめっき部だけにめっきが出来ます。
各装置の役割
Q. ミニミニフィルター（ろ過器）なしでもウェハ用めっき実験装置は使えますか？
A. 当社のウェハ用めっき実験装置はオーバーフロー撹拌、治具（陰極カートリッジ、陽極ホルダー）を組み合わせた構造です。
ミニミニフィルターはろ過機能の他、温度分布や濃度分布を整える役割も兼ね備えておりますので、一緒にお使いいただくことを推奨いたします。
Q. 陽極ホルダーなしでもウェハ用めっき実験装置は使えますか？
A. 陽極ホルダーは膜厚分布をよくするための遮蔽板*の機能を兼ね備えています。精密なめっきをするのには必要なものになります。
*遮蔽板とは陽極や陰極上の電流分布を変えるための非伝導性のしきりのようなもので、電流分布を整える役割があります。
使い方
Q. 1つの水槽で複数のサイズのウェハの実験はできますか？
A．水槽規格よりも小さいサイズのウェハであれば使用できます。本来の規格と違う水槽でめっきをする場合、水槽規格に合った治具をご使用ください。
また、水槽規格よりも大きなサンプルは水槽に入らないためできません。
例1）6inch 水槽で4inch サンプルのめっき実験はできます。
例2）4inch 水槽で6inch サンプルのめっき実験はできません。
輸出について
Q. ウェハ用めっき実験装置は輸出できますか？
A. はい、様々な国の研究機関、メーカー様への輸出実績があります。CEマーキング等の認証が必要な国については、以下の対応をしています。
〇パドル撹拌装置
安全規格IEC61010-1およびEN61326-1に適合のモデル（DU/DWタイプ、ノイズフィルター内蔵）をご使用ください。
A-52-ST-P04D パドル撹拌装置
〇液面センサー
液面が下がったときに自動的に加熱を止められるよう、ヒーターは必ず液面センサーと一緒にご使用ください。
A-60 液面センサー
