LAASとは

解析・システムアーキテクチャ研究所（LAAS）は、工学・システム科学研究所（INSIS）および情報科学・相互作用研究所（INS2I）と連携しているフランス国立科学研究センター（CNRS）の主要研究所のひとつです。フランストゥールーズにあるLAASは、トゥールーズ大学の6つの創設メンバー（T3PS、INSAT、INPT、UT2J、UT1C、ISAE）と連携しています。これは、CNRSの研究者と教員が密接に協力し、LAASが扱う様々な研究テーマをカバーしていることを意味します。

このプラットフォームは、マイクロ・ナノテクノロジー分野の7つの技術・研究施設（BTR）を集めたRENATECHと呼ばれるフランスの研究ネットワークの一翼を担っています。2007年4月、ミディ・ピレネー地域評議会、フランス国立科学研究センター（CNRS）、フランス国立研究機構（ANR）、LAASのBTRネットワークおよび提携クラブの資金援助により、LAAS-CNRS科学センターに1500 m2のクリーンルーム（グレード10.000および100）が建設されました。

これらの共同出資された設備により、エネルギー管理、電通信、化学、生物学のための新しいデバイスの設計、開発、統合から、フレキシブルチェーンに基づく実証機の製造までが可能になります。
研究所では毎年、70以上の内部プロジェクトと80以上の外部プロジェクト（学術および産業）を担当しています。

LAASで導入されている装置

山本鍍金試験器の装置は、LAASクリーンルーム（1500m2）の電気めっき分野専用エリアに設置されています。このエリアでは2名がフルタイムで働き、年間850枚以上のウェハーの電気めっき処理を行っています。また、浴分析、装置のメンテナンス、研究者への技術サポートも行っています。電解めっきエリアには、3台の山本鍍金試験器の装置に加え、4台の手動の機械と4台の工業用の機械があります。また、めっきの最高品質を保証するため、電気めっき浴の化学分析に特化したエリアもあります。

LAASでめっき可能な材料

LAASでは厚さ0.5μmから500μmまでの様々な種類の材料へのめっきが可能です。

金：高周波MEMSおよびMEMS用
銅 : 受動素子、配線、3Dめっき、3D RDL 
磁性合金：受動素子
ニッケル : ホットエンボス成形、機械部品
Aurolectroless：銅パッシベーション

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A-52W シリコンウェハめっき実験装置セット

2～12インチウェハ対応のCEマーキング付きめっきセットです。
完全密閉型、非密閉型カソードカートリッジなど専用治具を使用し、半導体、MEMSの精密めっきが可能です。オーバーフローシステムを採用し、常時ろ過過を行いながら槽底から緩やかな対流を発生させます。空気撹拌とパドル撹拌を同時に行うことで、非常に均一な膜厚が得られます。ガラス基板、フィルム基板のめっきにも対応可能です。
標準サイズは2～12インチですが、様々なニーズに合わせたセット製作が可能です。
(完全密閉型・非密閉型治具、水平タイプなど各種取り揃えております)

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